Bột WFA 99,7%-99,8% có 97% pha corundum trong tinh thể. Hàm lượng natri oxit ít hơn 0,1%. Nó hoạt động trong lớp phủ chịu lửa mịn, vật đúc chịu lửa, bùn vỏ gốm, dụng cụ mài cao cấp, lớp phủ và vật liệu phun.
Corundum trắng là vật liệu chống mài mòn tổng hợp nhân tạo. Hàm lượng oxit nhôm thường là 99% -99,5% với corundum trắng loại A. Trong các lĩnh vực chuyên môn hơn, sử dụng bột alumina công nghiệp natri thấp và tinh chế bằng các công thức đặc biệt có thể tinh chế alumina corundum trắng thành 99,7% -99,8%, với hàm lượng natri được kiểm soát trong vòng 0,1%. Tỷ lệ pha corundum sau khi kết tinh là 97-98%. Điều đó cải thiện đáng kể khả năng chống cháy, chống mài mòn, tự mài sắc, mật độ khối và nhiều tính chất khác của corundum trắng. Sau đó, với xử lý huyền phù và lắng đọng nước, chúng ta thu được bột corundum trắng 99,8%. Loại bột nhôm oxit này là bột corundum trắng micro natri.
Bột nhôm oxit 99,7%+ 800# nung chảy là một loại nhôm oxit trắng nung chảy Na2O thấp. Hàm lượng Na2O nhỏ hơn 0,1% với tạp chất rất thấp. Do kiểm soát chặt chẽ hàm lượng natri oxit, tỷ lệ chuyển đổi α – Al2O3 trong quá trình nung chảy điện phân bột nhôm oxit để tạo thành tinh thể corundum cao hơn 90%. Về mặt hiệu suất, nó được phản ánh ở độ cứng vật liệu tốt hơn, độ ổn định chống cháy và độ ổn định hóa học.
Như đã biết, nhôm oxit trắng 99,5% là một loại WFA có hàm lượng Na2O thấp. Mục đích của công nghệ nấu chảy bằng điện ở nhiệt độ cao là để kết tinh lại bột nhôm oxit công nghiệp và thu được tinh thể corundum có nhiệt độ chịu lửa cao, độ cứng cao và lực nghiền mạnh. Hầu hết nhôm oxit kết tinh lại đều ở pha corundum (tức là nhôm oxit pha alpha). Thông thường, hàm lượng Na2O của nhôm oxit trắng là 0,3-0,4%. Trong khi đó, hàm lượng pha alpha Al2O3 là khoảng 90%. Nhôm oxit trắng 99,5% được sản xuất theo công thức đặc biệt có hàm lượng Na2O nhỏ hơn 0,1%. Điều đó giúp tăng tỷ lệ sản xuất pha corundum. Tỷ lệ pha alpha Al2O3 có thể đạt tới 97-98%. Điều này cải thiện đáng kể các tính chất vật lý và nhiệt động lực học của vật liệu nhôm oxit trắng.
Sau khi cắt lát silicon wafer, xử lý phun cát có thể loại bỏ lớp oxit và cải thiện độ phẳng. Phương pháp phun cát thường được sử dụng là phun cát ướt. Phương tiện phun cho ứng dụng này là bột nhôm oxit trắng nóng chảy 15-20um.
